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昆山高纯气体中杂质说明

编辑:昆山市明伟工业气体经营部时间:2019-03-08

高阶制程的半导体行业依然遵循着摩尔定律的发展要求,同时不断同步督促着电子特种气体行业不断向前发展,如果抛开工艺其本身的难度,非工艺技术的质量控制水平将对未来电子特种气体行业的优胜劣汰起到决定性作用。昆山高纯气体中杂质说明:

1、常规杂质:

H2, O2, N2, Ar, CO, CO2, CH4, H2O

原材料中的较难分离物质

2、特殊杂质:颗粒物;油份;金属离子;同位素物质污染;亚稳态物质污染

3、杂质来源:原料污染;原材料的杂质组分;生产工艺副产物;工艺失效污染

过程污染:

环境带入:空气组分(O2, N2, Ar, CO2), 水分

生产装置,管路,充装装置带入:水分,金属元素,颗粒物,油份

生产工艺富集

包装污染:残气污染、包装本身带入污染:水分,金属元素,颗粒物、包装内壁处理不过关

分解聚合污染

充装过程污染:置换效率低、置换气体污染

真空度不够

上述文章重点介绍了气体本身杂质的基本构成,从上述结果可以看出,对于质量稳定性和可靠性的要求单点质量控制法已经无法满足,线性流程质量控制法也无法有效监控产品周转外的因素,因此,全面性的质量控制已经迫在眉睫。